Στόχοι

Οι στόχοι του PlasmaForNano είναι η παροχή νέων εργαλείων για την πλήρη εκμετάλλευση της υπάρχουσας υποδομής μίκρο/νάνο-τεχνολογίας καθώς και η ανάπτυξη νέων διαδικασιών, συσκευών και μίκρο/νάνο συστημάτων στο ελληνικό ερευνητικό οικοσύστημα.

Επομένως το έργο στοχεύει στα εξής:

Ανάπτυξη μιας ήδη μοναδικής υποδομής για την Ελλάδα επαυξάνοντας εκθετικά τις νανο-κατασκευαστικές της δυνατότητες σε μεταλλικά και ανόργανα υποστρώματα. Οι δυνατότητες αφορούν την εναπόθεση και την εγχάραξη μεταλλικών και ανόργανων υμενίων. Η εναπόθεση γίνεται με σύστημα εξάχνωσης μεταλλικών υμενίων με δέσμη ηλεκτρονίων πολλαπλών στόχων (e-beam PVD), ενώ η εγχάραξη με ακριβή έλεγχο διαστάσεων σε ατομικό επίπεδο (ICP etcher with ALE).

Επίδειξη νέων διεργασιών που αξιοποιούν νέα εργαλεία, τα οποία θα αποτελέσουν τα πρώτα βήματα προς την ανάπτυξη πρωτοποριακών συσκευών και ρηξικέλευθων τεχνολογιών, όλα “made in Greece”.

Ανάπτυξη πολιτικών πρόσβασης και ενσωμάτωση της νέας υποδομής στην υπάρχουσα.

Λόγω της συνέργειας με την υφιστάμενη υποδομή του ιδρύματος υποδοχής, η νέα εγκατάσταση θα παρέχει μια δυνατότητα one-shop-stop για:

Ανάπτυξη μεγάλης ποικιλίας από εξαιρετικά λεπτά ανόργανα υμένια καθώς και πολλαπλές στρώσεις αυτών,

δημιουργία και μεταφορά μεγάλης ποικιλίας υλικών και μοτίβων νανολιθογραφίας,

ανάπτυξη διεργασιών εγχάραξης με πλάσμα με έλεγχο ακρίβειας ατομικού στρώματος, καθώς και δυνατότητες εγχάραξης με πλάσμα για ένα ευρύ φάσμα υλικών για τα οποία δεν υπάρχει δυνατότητα εγχάραξης σήμερα με τον εξοπλισμό που είναι διαθέσιμος,

ενσωμάτωση όλων των προαναφερθέντων νέων δυνατότητων στην υλοποίηση νέων διατάξεων/συστημάτων καθώς και τρισδιάστατων νανοαρχιτεκτονικών αυξημένης πολυπλοκότητας ή/και ακρίβειας.