Εξαχνωτής Χαμηλής Θερμοκρασίας για Ευαίσθητα στη Θερμοκρασία Υλικά και Θερμικός Εξαχνωτής για Μέταλλα
Το δεύτερο σύστημα εξαχνωτή θα χρησιμοποιηθεί για την εναπόθεση ευαίσθητων στην θερμοκρασία υλικών και μετάλλων. Θα χρησιμοποιηθούν δύο πηγές εξάχνωσης, μία χαμηλής θερμοκρασίας για οργανικά υλικά, σουλφίδια και άλλες ενώσεις που είναι ευαίσθητες στη θερμοκρασία και ένας θερμικός εξαχνωτής για μέταλλα που επιτρέπει την συνεχή εναπόθεση πολλαπλών οργανικών/ανόργανων υμενίων χωρίς να σπάσει το κενό.
Μερικά βασικά χαρακτηριστικά του συστήματος:
- Οργανικά υλικά: Φουλερένια, τεφλόν και άλλα πολυμερή ή ολιγομερή χαμηλής επιφάνειας ενέργειας, C60, άλλα ευαίσθητα στην θερμοκρασία υλικά, χρησιμοποιώντας πηγή εξάχνωσης χαμηλής θερμοκρασίας.
- Σουλφίδια και άλλες ενώσεις: MoS2, WS2, Sb2S3, Bi2S3, SnS2, ZnS, MoTe2, MoSe2.
- Μέταλλα όπως το Al με χρήση πηγής θερμικής εξάχνωσης.
- Το σύστημα θα σχεδιαστεί με την δυνατότητα να εγκατασταθεί στο μέλλον μία πηγή ιοντοβολής (sputtering) για διηλεκτρικά.
- Πάχη από 5-500nm σε μία μόνο διεργασία εναπόθεσης.
- Ομοιομορφία τουλάχιστον ±5% σε υπόστρωμα 4 ιντσών.
- Βασική πίεση μεγαλύτερη από 7×10-7 Torr.
